圓周陣列的圓孔工程圖如何標注PCD？

狀態(tài)失控

3 M3 ?( }$ i: {; a1 p, Q( h$ U
如圖
1 t; S5 I2 C3 j1 G標注出來后發(fā)現(xiàn)沒有標注PCD及均布EQS。
0 v; E0 ]8 s  d5 H1 d“異性導向孔”的定位是先做了草圖定的位，（直接內(nèi)部陣列定位也一樣）。
這樣做有什么不妥的嗎？
網(wǎng)上也沒搜了明白
& E5 _' c) s* C7 W- u" q9 g請指點迷津  謝謝

- @/ H5 f& P" P$ E. E/ s# X

曉昀

內(nèi)圈和外圈的孔標注“均布”，或者從0點挨個標注角度。

狀態(tài)失控

曉昀 發(fā)表于 2019-3-16 12:06
內(nèi)圈和外圈的孔標注“均布”，或者從0點挨個標注角度。

就是說“均布”是不能自動標注的了。。
( S- w9 r3 G9 S* `那PCD不標注是咋回事，也需要單獨手動標注嗎？
" z6 g. a1 l( @% X5 z

曉昀

手動修改，添加

shentu

樓主懶出了新境界。按國標，你直接用孔標注，是過不了標準化審核這一關(guān)的，是不是該手動修改一下下？、
懶哇，那你糾結(jié)個啥喲

shentu

樓主為毛底孔還沒螺孔深？

無葉123654

這個圖上標注可以的，我們通常標注不是4*M12而是4-M12均布%%c150

狀態(tài)失控

無葉123654 發(fā)表于 2019-3-16 14:56
這個圖上標注可以的，我們通常標注不是4*M12而是4-M12均布%%c150

* [. o2 ?+ c% z% V) k3 M如何實現(xiàn)自動標注“PCD”及“均布”？？
請明示。

jun0801005

無語中。。。。就打兩字

無葉123654

狀態(tài)失控 發(fā)表于 2019-3-16 15:18
- p$ n$ J9 @" ]6 Y: t8 u9 O如何實現(xiàn)自動標注“PCD”及“均布”？？
請明示。

不能自動標注吧？你的加上。