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俄羅斯要投資5000多萬研發(fā)全新的光刻機

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1#
發(fā)表于 2022-4-2 09:26:54 | 只看該作者 |倒序瀏覽 |閱讀模式
【投資5000多萬 俄羅斯計劃研發(fā)全新EUV光刻機:ASML都沒有】

光刻機是半導(dǎo)體制造中的核心設(shè)備之一,EUV光刻機全球也只有ASML公司能夠研發(fā)、生產(chǎn),但它的技術(shù)限制也很多,俄羅斯計劃開發(fā)全新的EUV光刻機,使用的是X射線技術(shù),不需要光掩模就能生產(chǎn)芯片。

光刻機的架構(gòu)及技術(shù)很復(fù)雜,不過決定光刻機分辨率的主要因素就是三點,分別是常數(shù)K、光源波長及物鏡的數(shù)值孔徑,波長越短,分辨率就越高,現(xiàn)在的EUV光刻機使用的是極紫外光EUV,波長13.5nm,可以用于制造7nm及以下的先進工藝工藝。

俄羅斯莫斯科電子技術(shù)學(xué)院 (MIET)現(xiàn)在就接下了貿(mào)工部的6.7億盧布資金(約合5100萬元人民幣),也要開發(fā)制造芯片的光刻機,而且號稱要達到EUV級別,但技術(shù)原理完全不同,他們研發(fā)的是基于同步加速器和/或等離子體源”的無掩模X射線光刻機。

X射線光刻機使用的是X射線,波長介于0.01nm到10nm之間,比EUV極紫外光還要短,因此光刻分辨率要高很多。

此外,X射線光刻機相比現(xiàn)在的EUV光刻機還有一個優(yōu)勢,那就是不需要光掩模版,可以直寫光刻,這也節(jié)省了一大筆費用。

正因為有這么兩個特點,俄羅斯要研發(fā)的X射線光刻機優(yōu)勢很大,甚至被當?shù)氐拿襟w宣傳為全球都沒有的光刻機,ASML也做不到。
從相關(guān)資料來看,全球確實沒有能達到規(guī)模量產(chǎn)的X射線光刻機,不過這種技術(shù)并不是現(xiàn)在才有,不僅美國、歐洲研究過,國內(nèi)也有科研機構(gòu)做了X射線光刻機,只是生產(chǎn)芯片的效率跟ASML的光刻機不能比的,只適合特定場景。

不過俄羅斯在X射線及等離子之類的技術(shù)上有深厚的基礎(chǔ),倒是可以期待下他們在新型光刻機上能走多遠。
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發(fā)表于 2022-4-2 09:38:04 | 只看該作者
老毛子也那么會宣傳了
3#
發(fā)表于 2022-4-2 10:09:21 | 只看該作者
五千萬人民幣?
4#
發(fā)表于 2022-4-2 11:18:38 | 只看該作者
大毛V5!不管咋樣,氣勢要足,哪怕是聽一聲水響,也是值得的!
5#
發(fā)表于 2022-4-2 11:22:05 | 只看該作者
大毛V5。。。
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6#
發(fā)表于 2022-4-2 11:49:30 | 只看該作者

這點錢有些中國家庭都能拿出來,如果投入這么少就能搞出光刻機,那真是牛了。
7#
發(fā)表于 2022-4-5 12:20:33 | 只看該作者
這個研究可以的!
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