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標題: CVD鑽石薄膜材料,中國人搞的 [打印本頁]
作者: jamesliu8029 時間: 2007-3-16 20:00
標題: CVD鑽石薄膜材料,中國人搞的
3 U e, `' Z6 s* B6 G- q
% {8 ~' g8 c! l r; z+ O7 |
. u n/ Q4 A2 F/ S1 v- v6 Z% Z: Y; G8 w8 e$ F% ]- X; k+ ^/ P
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X - 光分析 ( XRD ) – shimadzu XRD-6000 ( 40kv,30mA,step 0.02 deg.,speed 4 deg. / min.ffice ffice" />
& ?! n4 \! k: d* c8 p5 | B or 1 deg. / min.) |
0 @# n9 I# `) i R% C
9 D0 c- r7 f3 G8 S m* `2 j|
& ~2 v! E, h# \& O" u ◎晶體結構 | - A4 o8 d1 m+ B3 P
, n; u9 U# s7 w4 C$ p. n Cubic |
7 z B# N; R" W9 p" S* J, g3 @8 S& o: H* A2 _, ]$ i' ?
|
" Y' e7 V7 ]/ t ◎空間群 | 8 U6 U7 ]% n. Z% _2 w
" |, Z6 U0 k& w( q Fd–ffice:smarttags" />3m |
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* C- U5 o/ ]& _5 J4 n; O ◎晶格參數(R.T) | + d7 N; V1 n& w. K5 T; L4 t; F \+ V+ J
: L. N' E) z) V (A) 3.570 |
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|
) w- c6 u0 A( q+ k/ I7 {# F/ S4 R ◎密度(g/cm3) |
/ N- c( o. f5 F9 p( n, d
7 |+ L' T e& I+ ]5 a 3.508 |
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◎晶面(111) | - v9 i- X# G0 }7 Z
9 S' k5 u( c X' m7 C2 `0 p; S 202 |
2 e+ J0 S8 c' t8 K
9 c( i7 N, ]1 [9 o# ~|
+ s' O# T; `+ e, i! E6 o. t 粗糙度分析 ( SPM ) - Thermo Microscopes CP Research ( 50 μm * 50 μm ) |
# F. }) H2 y8 u; P, }+ H; d! A
D5 X% w9 b- B" b1 I' d6 Y) y+ @|
! x3 L. w9 m- c+ }( L: ?. v- b ◎中心線平均粗糙面Ra ( Ave. Rough ) |
* x Y8 |: t6 M# v5 g( v: {1 d! {$ j
0 T* x0 ^7 w2 b$ Y2 J 總面積 / 底長86.39 nm霧面,1.052 nm亮面。 |
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- X& ]" w4 S) l
|
0 ?( y- d/ b: a1 a ◎中心線均方根粗糙面Rq ( Rms Rough ) |
) d$ E" L, W/ p* _1 J: y( \$ n0 i0 A, c5 z+ h+ d+ k6 \$ T5 S
104.8 nm霧面,1.321 nm亮面。 |
/ L6 i# s* _5 n% a6 n
( L9 g% R+ S$ u6 U| 8 h c# S; s* v8 y
◎Rp 250.4 nm霧面,2.592 nm亮面,Rv 189.1 nm霧面,6.156 nm亮面。 |
& q4 f2 Y8 f6 I6 V' k# x
/ a4 i! s% {; g3 X7 T| * ^. }) p$ ~; A [. G& ^
◎高低差異值為 8 nm 亮面。 |
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圖片:
. z- x, ?' _& B% p! | J5 P顆粒顯微分析一
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8 r( d6 N3 \( e顆粒顯微分析二
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顆粒顯微分析三
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* G* n( Y; x5 f) o
顆粒顯微分析四
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7 \8 _$ [& [1 n顆粒顯微分析五
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顆粒顯微分析六
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% ^/ Y* X* M$ T$ E0 q) s顆粒顯微分析七
1 i* h1 Q8 q5 k
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4 g5 j1 _! \" X; j9 Z7 D
作者: jamesliu8029 時間: 2007-3-16 20:10
標題: Re: 日本人行,中國人更行!!!
補充:8 t; f, l1 q6 U8 S
這是完全由中國人研發並拋光完成的CVD鑽石薄膜材料
" m) |' ^' S2 h* w日本人做到2吋!!中國人做到4吋, {4 m3 H4 N/ w( ]% I( e
圖一是鑽石膜晶片拋光品質
9 R$ Z$ L; M; S6 h- x6 _圖二是拋光與未拋光之比較, F, x5 l2 [# I# Q2 w$ C# v
圖三至圖七是電子顯微鏡照片
作者: 深南大道 時間: 2007-3-16 20:25
標題: Re: 日本人行,中國人更行!!!
呵呵,希望中國的各行各業都能像這樣超過日本人~~~~
作者: jamesliu8029 時間: 2007-3-20 23:50
標題: Re: 日本人行,中國人更行!!!
為啥沒人頂??不懂材料特性??8 H Z8 l8 P) l/ w; u
我再補充一下!!!" w3 [) u$ g! \ m% T
鑽石的硬度在100GPA密度3.2g/cm3以上,熱傳導率1300~2100W/mK(銅397),比熱1.81J/cm3K(銅3.4),熱擴散率7.2~11.6cm2/s(銅1.16)9 D9 N h0 d3 H3 o* D! `1 |/ i
其散熱及不沾粘性是世界公認
! P% P$ ^. ^. m( T: w6 C& y6 ^, y在電子應用LED上可替代藍寶石基材,可作IC等散熱片
; Q$ J: n e; q: O在機械行業可用精密模具(如鏡片)、耐磨材料8 K' S0 s3 |* N' X( V/ R
我的QQ是473137404
# X$ a7 a$ E5 n0 I5 Q1 r- S歡迎大家一起討論
作者: lwm789 時間: 2007-3-21 09:40
標題: Re: 日本人行,中國人更行!!!
不懂不懂,請教:這種鉆石薄膜是柔性的嗎?可以做密封件嗎?可以成型嗎?是否有買?價格是否很貴?謝謝。
作者: jamesliu8029 時間: 2007-3-21 13:17
標題: Re: 日本人行,中國人更行!!!
原帖由 滴水天 發表% K) ?$ c3 d: H- r3 U
不懂不懂,請教:這種鉆石薄膜是柔性的嗎?可以做密封件嗎?可以成型嗎?是否有買?價格是否很貴?謝謝。
) x7 W1 B% x" {0 P6 R" _4 r' T5 ^
這是平面剛性材料,因需拋光,才能達到1.052奈米的粗糙度,用於耐磨導靠零件,耐酸鹼,可替代所有超硬材料,現規格是四吋
2 F6 h9 c% v6 }: k
可惜不是柔性的!!如有興趣研究者,可與我連系
+ t- m* ^2 a4 Z* ?9 a/ W; pQQ: 473137404
作者: 海山 時間: 2007-3-21 14:31
標題: Re: 日本人行,中國人更行!!!
想了解下:使用什么設備(哪國的)來制造的?
作者: jamesliu8029 時間: 2007-3-21 15:06
標題: Re: 日本人行,中國人更行!!!
中國人自行開發的CVD設備
作者: cmx 時間: 2007-3-21 15:22
標題: Re: 日本人行,中國人更行!!!
只知VCD,CVD?液晶面板。。。?
作者: jamesliu8029 時間: 2007-3-21 15:39
標題: Re: 日本人行,中國人更行!!!
ffice
ffice" />化學氣相沉積技術(Chemical Vapor Deposition縮寫 CVD)
$ y8 ?% s2 J) t$ w+ D. Effice:word" />化學氣相沉積是製造微電子元件時,被用來沉積出特定薄膜(film)的技術,所沉積出的薄膜可以是介電(dielectrics)、導體、或半導體。
6 n+ Y2 g6 T; F1 g$ R
3 H7 ]- ?; q0 f- z" \8 I
6 W0 Z) S6 L K) h/ Y9 ?# f+ z/ r
n( W: V3 J& V$ O物理氣相沉積技術(Physical Vapor Deposition縮寫 PVD)
2 X" P' J2 g7 ?9 V) P0 i4 H: W物理氣相沉積應用方式與化學氣相沉積相似,主要有三種製程:蒸鍍(Evaporation Deposition)、離子鍍(Ion Plating)、濺鍍(Sputtering Deposition)及衍生性濺鍍。
作者: cmx 時間: 2007-3-21 15:53
標題: Re: CVD鑽石薄膜材料,中國人搞的
謝謝!望這項技術繼續發展,硅谷也得改改名,呵呵。
作者: jamesliu8029 時間: 2007-4-23 23:30
標題: Re: CVD鑽石薄膜材料,中國人搞的
自己頂一下!( p. t: G0 I7 p! H* K5 a
鑽石薄膜晶片可應用領域 x. W( q- w3 |
一、SAW(聲頻濾波器)--GHz高頻濾波器、高品質光電無線通訊. j, r) u3 w$ A4 ]0 R! M1 |
二、紫外線發光LED--高容量光記錄器& U3 |. Q5 C& H/ p
三、高功率LASER二極體散熱片--通信顯示器、光源& C, i G7 R/ u% h- a) r8 @* Q
四、高熱源元件散熱器--高階NB-CPU散散器、Desk PC-CPU散熱器
2 k) }! e U0 [7 w7 j! }
作者: jamesliu8029 時間: 2007-4-23 23:35
標題: Re: CVD鑽石薄膜材料,中國人搞的
五、其他可供應用方向3 f) n2 d0 u% q& v# D3 f; n
1、Diamond bonding tools for semiconductors(TAB Tool)
4 b# g3 J- a( m, l/ i) t2、submonuts for LASER High Power LED- F1 A$ n4 e1 x& Q
3、CVD Diamond Disk
# L8 Y: f. W: }以全球鑽石膜生成及拋光技術來論,日本住友電工長期以來一直在CVD領域從事不同性狀與品質需求的CVD Diamond產品,供應工業加工用途、或為次世代電子元件的產品。
# B% k' T& x; y) ~9 n% @! R1995年住友電工發表大面積3英吋CVD Diamond Wafer製作及研磨試作成功;1998年發表利用大面積CVD Diamond Wafer製作2.5G Hz Diamond SAW元件,用於高頻產品;2001年發表5G Hz Diamond SAW發振元件;2004年將CVD Diamond Wafer及 Diamond SAW關鍵製作技術授權並導入精工EPSON。3 G: u# [0 ?+ z7 \- |
EPSON在Diamond SAW元件早已開發完備商品化,並繼續開發更高頻率元件、半導體場發射元件、高純度奈米多晶Diamond、高性能Diamond Heatsink元件、LASER Diamond Heatsink、高功率FET等元件,且多數已開發完成,但這幾年來以上這些高階元件遲遲未見市場化,其關鍵在於CVD Diamond Wafer未能有效量產化,材料取得不易,製造成本太高,無法降低成本之原因。
/ j1 ?- j- A/ `5 o6 y- d, Q我公司完成以4吋 1mm矽晶圓基材、達成面粗度8nm鑽石薄膜晶片,單機日產8片,良率達95%之成果,完全可達商業量產化之要求
作者: jamesliu8029 時間: 2007-4-23 23:41
標題: Re: CVD鑽石薄膜材料,中國人搞的
鑽石薄膜的耐高溫、耐磨損、不沾黏的特性,故在IT產業上用于Diamond bonding tools for semiconductors(TAB Tool) 表面(上項照片平面之部份)
$ E, ]; s+ H* \用於機械產業可用於耐磨件、導靠件上
7 k5 m, D& d! [$ E2 K, v, Y4 K+ n. _能否請各位高手大大提供關于機床可以應用在那些零部件??4 M U' Z3 E3 [# Z
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